不過,隨(suí )著國(guó)(guó )內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)突破及定制化芯片開發(fā),國(guó)產(chǎn)(chǎn )算力有(yǒu )望在未來3-5年縮小差距。他(tā )特別提到(dào ),2025年國(guó)內(nèi)AI基礎(chǔ)設(shè)施資本支出計(jì)劃近5000億元,但相比美國(guó)(guó )前五大云廠商合計(jì)(jì )的3000億美金(jīn )規(guī)模仍(réng )有(yǒu )差距,需(xū )持續(xù)加大投入以應(yīng)對(duì)(duì )推理需(xū )求的非線性增(zēng )長(zhǎng)。
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