據(jù)統(tǒng)計,半導(dǎo)體制造(zào )廠每小時的耗(hào )電量高(gāo )達(dá)100兆瓦時,相當(dāng)(dāng )于8萬多戶北美家庭的用電量。特別是極紫外(EUV)光刻技術(shù)(shù ),作為7納米及以下先進(jìn)制程的(de )核心設(shè)備(bèi ),其(qí )耗電量尤為(wéi )驚人——2020年(nián ),臺積電EUV光刻(kè )機(jī)用電量就達(dá)100億度,占到臺積(jī )電總用電量的大半。隨著制程(chéng )技術(shù)向3納米、2納米(mǐ )甚至(zhì )更小(xiǎo )節(jié)點(diǎn )推進(jìn),這一數(shù)字(zì )還將(jiāng )持續(xù)攀升。
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