不過,隨著國(guó)內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)突破(pò )及定制(zhì )化芯片開發(fā),國(guó)產(chǎn)算力有望(wàng )在未來3-5年縮小(xiǎo )差(chà )距。他特(tè )別提到,2025年國(guó)內(nèi)AI基(jī )礎(chǔ)設(shè)施資本支出計(jì)劃近5000億(yì )元,但相比美國(guó)前五(wǔ )大云廠商合計(jì)的3000億美金規(guī)模仍有(yǒu )差(chà )距,需持續(xù)加大(dà )投入以應(yīng)對(duì)推理(lǐ )需求的非(fēi )線性增(zēng )長(zhǎng)。
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