不過,隨著(zhe )國內(nèi)光刻機技術(shù)突破及(jí )定制化芯片開發(fā),國(guó )產(chǎn)算力有(yǒu )望在未(wèi )來3-5年縮小差距。他特別提到,2025年國內(nèi)AI基礎(chǔ)設(shè)施資本支出計劃近(jìn )5000億元,但相比美(měi )國前(qián )五大(dà )云廠(chǎng )商合計的3000億(yì )美金規(guī)模仍有差距,需(xū )持續(xù)加大投(tóu )入以應(yīng)對(duì )推理需求的非(fēi )線性(xìng )增長(zhǎng )。
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