據(jù)(jù )統(tǒng)計,半導(dǎo)體制造廠(chǎng )每小時的耗電量(liàng )高(gāo )達100兆瓦時,相當(dāng)于8萬多戶北美家庭的用電量。特別(bié )是極紫外(EUV)光刻技術(shù),作為7納米及以下先進制程(chéng )的核心設(shè)(shè )備,其(qí )耗電(diàn )量尤為驚人——2020年,臺積電EUV光刻機用電量就達100億度,占到臺積電總用(yòng )電(diàn )量的大半。隨著制(zhì )程技術(shù)向3納米、2納米甚至更小節(jié)點(diǎn )推(tuī )進,這一數(shù)(shù )字還將持續(xù)攀升。
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