據(jù)統(tǒng)計(jì),半導(dǎo)體制造廠每小時(shí)的耗電量(liàng )高達(dá)(dá )100兆瓦時(shí),相當(dāng)于8萬(wàn)多戶北美家庭(tíng )的用電量。特別是(shì )極紫外(EUV)光刻(kè )技術(shù)(shù ),作為7納米及(jí )以下先進(jìn)制(zhì )程(chéng )的(de )核心(xīn )設(shè)備,其耗電量尤為驚人——2020年,臺(tái)(tái )積電(diàn )EUV光刻機(jī)用電量(liàng )就達(dá)100億度,占到臺(tái)積電總用電量的大半(bàn )。隨(suí )著制程技術(shù)向3納米、2納米甚至更小節(jié)點(diǎn)推進(jìn),這一數(shù)(shù )字還將持續(xù)攀升。
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