據(jù)統(tǒng)計(jì),半導(dǎo)體制造廠每小時(shí)的(de )耗電量(liàng )高達(dá)100兆瓦時(shí),相當(dāng)于(yú )8萬多(duō )戶北(běi )美家庭的用(yòng )電(diàn )量。特(tè )別是極紫外(EUV)光(guāng )刻技術(shù),作為7納米及以下先進(jìn)制程的核心設(shè)備,其耗電量尤為驚人——2020年(nián ),臺(tái)積(jī )電EUV光刻機(jī)用電量(liàng )就(jiù )達(dá)100億度,占到臺(tái)積電總用(yòng )電量的大半。隨著制程技(jì )術(shù)(shù )向3納米(mǐ )、2納米甚至(zhì )更小節(jié)點(diǎn)推進(jìn),這一數(shù)字(zì )還(hái )將持(chí )續(xù)攀升。
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