針對(duì)算力問題,博(bó )時(shí)基金行業(yè)研(yán )究部研究(jiū )員肖達(dá)(dá )指出,當(dāng)前(qián )Deep Seek與國(guó)產(chǎn)算力適配情(qíng )況不錯(cuò)(cuò ),但制造(zào )算力芯片所需要的先(xiān )進(jìn)(jìn )半導(dǎo)體制程國(guó)產(chǎn)能力不(bú )足。算力芯片通常需要使用7nm以下工藝制程,但所需(xū )的EUV光刻(kè )機(jī)目前被海外禁(jìn )運(yùn),同時(shí)與之相關(guān)(guān )的其他關(guān)鍵(jiàn )設(shè)(shè )備(bèi )、材料和工藝能力距離(lí )海外廠商仍有顯著差距。
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