不(bú )過,隨著國內(nèi)光(guāng )刻機(jī)技術(shù)突(tū )破及定(dìng )制化芯(xīn )片開發(fā),國產(chǎn)算力有望在未來3-5年縮小(xiǎo )差距。他(tā )特別提到,2025年國內(nèi)AI基(jī )礎(chǔ)設(shè)施資本支出計(jì)劃近5000億(yì )元,但相比美國前五(wǔ )大云廠商合計(jì)的(de )3000億美金規(guī)模仍有差距,需(xū )持續(xù)加大(dà )投入以應(yīng)(yīng )對推理(lǐ )需求的(de )非線性增長。
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