IISc 團(tuán)隊(duì)在(zài )報(bào)(bào )告中提到(dào )了兩類(lèi)可用(yòng )于制造埃米級(jí) 2D 非硅芯片的物質(zhì):石(shí )墨烯和過(guò)渡金屬硫化(huà )物(簡(jiǎn)稱(chēng) TMD,如這一領(lǐng)域的“明星材料”二硫化(huà )鉬 MoS2),并尋求五(wǔ )年內(nèi) 50 億盧比(現(xiàn)匯率約合 4.27 億元人民幣)的政府(fǔ )研發(fā)支(zhī )持資金。
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