劇情簡(jiǎn)介
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據(jù)統(tǒng)計(jì)(jì )，半導(dǎo)體制造廠每小時(shí)的耗電量(liàng )高達(dá)100兆瓦時(shí)，相當(dāng)于8萬(wàn)多戶北美家庭的用(yòng )電量。特別(bié )是(shì )極紫外（EUV）光刻技術(shù)，作為7納米及以下先(xiān )進(jìn)制程的核心(xīn )設(shè)(shè )備，其耗(hào )電量尤為驚人——2020年，臺(tái)積電EUV光刻機(jī)用電量就達(dá)(dá )100億度，占到(dào )臺(tái)積電總用電量的(de )大半。隨(suí )著制程(chéng )技術(shù)(shù )向3納米、2納米甚至更(gèng )小(xiǎo )節(jié)點(diǎn)推進(jìn)(jìn )，這一數(shù)字還將持續(xù)攀(pān )升。
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