不過,隨(suí )著國(guó)內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)突破及定制化芯片開發(fā),國(guó)產(chǎn)算力有望在未來3-5年縮小差距。他特別提到,2025年(nián )國(guó)內(nèi)(nèi )AI基礎(chǔ)設(shè)施資本支出計(jì)劃近5000億元,但相比美國(guó)(guó )前五(wǔ )大云廠商合(hé )計(jì)的3000億(yì )美金規(guī)(guī )模仍有差距(jù ),需持續(xù)加大(dà )投入以應(yīng)對(duì)推理需求的非(fēi )線(xiàn )性增長(zhǎng)。
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