據(jù)統(tǒng)計(jì),半(bàn )導(dǎo)體(tǐ )制造廠每小時的耗電量高達(dá)100兆(zhào )瓦時,相當(dāng)于8萬多戶(hù )北美(měi )家庭的用電(diàn )量。特別是極(jí )紫外(EUV)光刻技術(shù)(shù ),作為(wéi )7納米及以下先進(jìn)制程的核(hé )心設(shè)備,其耗(hào )電量尤為驚人——2020年,臺積電EUV光(guāng )刻機(jī)用電量就達(dá)100億度(dù ),占到臺積(jī )電總用(yòng )電量的大半。隨著制程技術(shù)向3納米、2納米甚(shèn )至更(gèng )小節(jié)點(diǎn)推進(jìn),這一數(shù)字還將(jiāng )持續(xù)攀升(shēng )。
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