不過,隨著國內(nèi)光刻機(jī)技術(shù)突破及(jí )定制化芯片開發(fā),國產(chǎn)算力有(yǒu )望在未來(lái )3-5年縮小差距(jù )。他特別提到,2025年國內(nèi)AI基礎(chǔ)設(shè)(shè )施資本支出計劃近5000億元,但相比美國(guó )前五(wǔ )大(dà )云(yún )廠商合計的3000億美金規(guī)(guī )模仍(réng )有(yǒu )差距(jù ),需持續(xù)加大投入以(yǐ )應(yīng)對推理需求的非(fēi )線性增(zēng )長。
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